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二手ICP-MS電感耦合等離子體質譜

簡要描(miao)述:二手ICP-MS電(dian)感耦(ou)合等離子體質譜 安(an)捷(jie)倫7700-是zui小的商品化ICP-MS。作(zuo)(zuo)為的安(an)捷(jie)倫7500 系列(lie)ICP-MS的繼(ji)承者,7700性能在各(ge)方(fang)面更(geng)(geng)勝*:分(fen)析(xi)速度更(geng)(geng)快、操作(zuo)(zuo)更(geng)(geng)簡便、靈(ling)敏度更(geng)(geng)高、背景噪音更(geng)(geng)低、消干擾(rao)效果更(geng)(geng)佳、應用面更(geng)(geng)廣(guang)、維護更(geng)(geng)方(fang)便。

  • 產(chan)品型號:7700
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間(jian):2020-03-26
  • 訪  問  量:3487

詳細介紹

品牌Agilent/安捷倫價格區間面議
儀器種類四極桿質譜產地類別進口
應用領域環保,化工,石油,司法,制藥

二手ICP-MS電感耦合等離子體質譜 安捷倫7700-是zui小的商品化ICP-MS。作為的安捷倫7500 系列ICP-MS的繼承者,7700性能在各方面更勝*:分析速度更快、操作更簡便、靈敏度更高、背景噪音更低、消干擾效果更佳、應用面更廣、維護更方便。7700x具有適應多種樣品類型、應用范圍廣泛、性能穩定耐用的特點,是大多數常規實驗室和分析大批量樣品的商業實驗室的上佳選擇。7700s 則是專為半導體行業應用而設計,具有半導體針對性的強大功能。這兩種型號都具有*的性能和易于使用的優點,即使您面對的是棘手的樣品基體,它們都能為您獲取值得信賴的分析結果。

 

<strong><strong><strong><strong>二手ICP-MS電感耦合等離子體質譜</strong></strong></strong></strong> 安捷倫7700

7700系(xi)列ICP-MS不(bu)但配置了新(xin)的(de)軟件平臺,而且在儀器硬件方面(mian)也(ye)進行了革新(xin)設計,包括全(quan)新(xin)數(shu)字控制式射頻匹配的(de)RF發生器和第三(san)代八極桿碰(peng)撞/反應池系(xi)統(ORS3)。安捷倫7700x ICP-MS 憑借第三(san)代碰(peng)撞/ 反應池(ORS3) 為復雜高基體(ti)樣(yang)品的(de)分析提供了*的(de)準確性(xing),它重(zhong)新(xin)定義了碰(peng)撞/反應池:僅使用氦氣碰(peng)撞即可(ke)消除所(suo)有可(ke)能的(de)質譜干擾!

 

二手ICP-MS電感耦合等離子體質譜 安捷倫7700技術參數:

1.靈敏(min)度(du):

低質量數(shu) Li(7): 50 Mcps/ppm;

中質(zhi)量數 Y(89): 60 Mcps/ppm(7700x); 240 Mcps/ppm(7700s) ;

(高(gao)質量數 Tl(205): 80 Mcps/ppm(7700x); 120 Mcps/ppm(7700s);

根據(ju)用戶特殊(shu)需求,如激光、核(he)工業、半導體材(cai)料(liao)等應用,可(ke)提(ti)供高(gao)靈敏度功能

2.檢測(ce)限:

低質量數 Be(9): 0.5 ppt;

中質量數(shu) In(115): 0.1 ppt

高質量數 Bi(209): 0.1 ppt

3.氧化物干擾: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x); 3.0 %(7700s);

4.雙電荷干擾: Ce2+/Ce+:3.0 %

5.同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%

6.質譜范圍:2 - 260 amu;

7.豐(feng)度靈(ling)敏度

低質量端: 5 x 10-7

高質量端: 1 x 10-7

 

主要特(te)點:

尺寸(cun)zui小的(de)ICP-MS

靈敏(min)度zui高的碰撞池-第三代ORS3

純(chun) 氦 氣碰(peng)撞池:只用He氣就(jiu)可以(yi)消(xiao)除所有干擾。

耐高鹽的ICP-MS: HMI技術(TDS>3%)

ICP離子源技術:數字控(kong)制式諧頻ICP發生(sheng)器

有機溶劑進樣不熄火(huo)!

分析速度(du)快:ISIS-DS技術

容易維護和清洗

強(qiang)大的色譜聯機功能:一(yi)體化

功能強大的(de)軟(ruan)件:MassHunter系統(tong),實現實時QA/QC

偏移標示,自動化(hua)控制等

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